告诉您硅片回收的化学腐蚀法
后经过滚磨处理后，需要采用化学腐蚀的方法来消除或减轻晶体表面的机械应用和损伤。常用的化学腐蚀方法有酸腐蚀和碱腐蚀两种形式，下面苏州启晨新能源科技有限公司为大家介绍一下这两种化学腐蚀方法。
一、碱腐蚀
碱腐蚀腐蚀液为NaOH或KOH+H20，与酸腐蚀一样，碱腐蚀的化学腐蚀速度也与其配比及腐蚀温度有关。
硅片回收碱腐蚀液配比一般为：NaOH或KOH+H2 0，浓度15%～40%(质量分数)。
碱腐蚀属于慢腐蚀，需要加温，通常控制到80～95℃。腐蚀温度对腐蚀后晶体的表面质量影响很大，腐蚀液配比确定以后，控制腐蚀温度是其工艺控制的关键之一。
碱腐蚀主要为纵向腐蚀，其表面剥离的效果较酸腐蚀明显，因此滚鼯时外形尺寸要留有余量。
碱腐蚀反应慢、易控制、废液易处理，但是容易造成晶体表面粗糙的腐蚀坑，而全翠二留的碱也很难彻底去除，加之晶体的体积也越来越大，需要越来越大的加热腐蚀设答，越多的废液需要处理，总之，碱腐蚀也不能令人满意。
二、硅片回收
酸腐蚀
硅片回收酸腐蚀通常采用HF十HN03十HAc配制成混合酸腐蚀液，化学腐蚀速度与其配比及反应温度密切相关。
通常的酸腐蚀液配比：
硅片与上述混合酸的反应为放热反应，在腐蚀过程中不需要再另行加温。
使用硅片回收酸腐蚀速度快，但是化学反应生成的氮化物需要进行专门的处理。